6英寸SiC导电型衬底单晶片规格书 |
||||
等级 |
工业级(P -MOS级) |
工业级(P-SBD 级) |
试片级(D 级) |
陪片级(NG级) |
|
晶体参数 |
|||
表面取向 |
4.0°toward<11-20>±0.25° |
NA |
||
4H 晶型面积 |
100% |
|||
有效面积 |
≥98% |
≥90% |
<90% |
|
|
机械参数 |
|||
直径(mm) |
150±0.2 |
<149.8或>150.2 |
||
主参考面取向 |
<10- 10>±5.0° |
NA |
||
主参考面长度(mm) |
47.5±1.5 |
<46或>49 |
||
次参考面 |
无 |
|||
厚度(μm) |
350±20 |
350±25 |
300~325或>375 |
|
TTV(μm) |
≤5 |
≤10 |
≤15 |
>15 |
LTVave (μm) |
≤1 |
≤3 |
>3 |
|
LTVmax (μm) |
≤2 |
≤3 |
≤5 |
>5 |
Bow (μm) |
-10~10 |
-20~20 |
-25~25 |
<-25或>25 |
Warp (μm) |
≤25 |
≤40 |
>40 |
|
Si面粗糙度(nm) |
<0.2 |
NA |
||
|
电学参数 |
|||
电阻率 (Ω·cm) |
0.015~0.025 |
0.015~0.028 |
0.015~0.03 |
|
掺杂剂 |
N 型 掺氮 |
|||
|
缺陷参数 |
|||
六方夹杂 (强光/显微镜/表面缺陷检测仪) |
无 |
无 |
有 |
|
碳包裹物密度(个/cm2) |
≤0.1 |
≤0.1 |
≤0.5 |
>0.5 |
基平面位错BPD |
≤800 |
≤3000 |
≤9000 |
>9000 |
螺位错TSD |
≤200 |
≤500 |
≤1000 |
>1000 |
刃位错TED |
≤3000 |
≤3000 |
≤7000 |
>7000 |
微管密度(个/cm2) |
≤0.1 |
≤0.5 |
>0.5 |
|
|
正面质量(Si面) |
|||
Si面处理 |
Si面CMP |
|||
裂纹 (强光灯) |
无 |
有 |
||
划痕(强光灯) |
无 |
有 |
||
凹坑(强光灯) |
无 |
有 |
||
磕边 (强光灯) |
无 |
有 |
||
崩边( mm) (显微镜) |
长度<0.5 ,深度<0.2 |
NA |
||
缺边 (显微镜) |
无 |
有 |
||
六方孔洞 (强光灯) |
无 |
有 |
||
Si面颗粒聚集(表面缺陷检测仪) |
无 |
有 |
||
划痕占比 (表面缺陷检测仪) |
≤5% |
>5% |
||
划痕累计长度(mm)(表面缺陷检测仪) |
累计长度≤100 |
累计长度≤300 |
累计长度>300 |
|
堆垛层错(表面缺陷检测仪) |
≤0.5% |
≤1% |
>1% |
NA |
凹坑(个)(表面缺陷检测仪) |
≤20 |
≤50 |
≤100 |
>100 |
|
背面质量(C面) |
|||
C面处理 |
C面抛光 |
|||
背面划痕(强光灯) |
目测无划痕 |
NA |
||
背面粗糙度 |
<1nm |
|||
背面激光标记 |
单线打标,距离主边长度1mm,距离两边(主边端点垂线) 12- 15mm, 激光刻字深度0-10μm |
|||
崩边(强光灯) |
无 |
有 |
||
|
边缘轮廓 |
|||
边缘轮廓 |
倒角处理 |
|||
|
包装 |
|||
包装 |
多片或单片包装,开盒即用 |